Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

เซอร์โคเนียมออกไซด์ ZrO₂ |แฮฟเนียมออกไซด์HfO₂ 99.9%

คำอธิบาย

เซอร์โคเนียมออกไซด์ ZrO₂หรือเซอร์โคเนียมไดออกไซด์ที่แทบไม่ละลายในน้ำ และละลายได้เล็กน้อยใน HCl และ HNO₃, จุดหลอมเหลว 2700 องศาเซลเซียส ความหนาแน่น 5.85g/cm³เป็นคริสตัลไร้กลิ่นที่มีจุดหลอมเหลวสูง ความต้านทานสูง ดัชนีการหักเหของแสงสูงและคุณสมบัติสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ ซึ่งเป็นวัสดุที่ทนต่ออุณหภูมิสูง วัสดุฉนวนเซรามิก ครีมกันแดดเซรามิก และวัตถุดิบสำหรับอัญมณีเทียมZrO₂เป็นสินค้าทั่วไปควรเก็บในที่เย็น แห้ง และอากาศถ่ายเทได้ดี ปิดภาชนะให้แน่น และให้ห่างจากด่างที่แรงเซอร์โคเนียมออกไซด์ ZrO₂มักใช้สำหรับทำโลหะเซอร์โคเนียมและเซอร์โคเนียมผสม เซรามิกความถี่สูง วัสดุขัด เม็ดสีเซรามิก วัสดุทนไฟ และแก้วแสง

จัดส่ง

เซอร์โคเนียมออกไซด์หรือเซอร์โคเนียมไดออกไซด์ ZrO₂ด้วยความบริสุทธิ์ของZrO₂+HfO₂≥ 99.9% และแฮฟเนียมออกไซด์ HfO₂ด้วยความบริสุทธิ์ของ HfO₂+ZrO₂≥99.9% ที่ Western Minmetals (SC) Corporation สามารถจัดส่งได้ในขนาดผง 60-150mesh, 25 กก. ในถุงพลาสติกพร้อมกล่องกระดาษแข็งด้านนอก หรือตามข้อกำหนดที่กำหนดเอง

สอบถามตอนนี้

รายละเอียด

แท็ก

ข้อมูลทางเทคนิค

ZrO₂& HfoO₂

เซอร์โคเนียมออกไซด์หรือเซอร์โคเนียมไดออกไซด์ ZrO₂ ด้วยความบริสุทธิ์ของZrO₂+HfO₂≥ 99.9% และแฮฟเนียมออกไซด์ HfO₂ด้วยความบริสุทธิ์ของ HfO₂+ZrO₂≥99.9% ที่ Western Minmetals (SC) Corporation สามารถจัดส่งได้ในขนาดผง 60-150mesh, 25 กก. ในถุงพลาสติกพร้อมกล่องกระดาษแข็งด้านนอก หรือตามข้อกำหนดที่กำหนดเอง

รายการ	HfO₂	ZrO₂
รูปร่าง	ผงสีขาว	ผงสีขาว
น้ำหนักโมเลกุล	210.49	123.22
ความหนาแน่น	9.68 ก./ซม.³	5.85 ก./ซม.³
จุดหลอมเหลว	2758 °C	2700 °C
หมายเลข CAS	12055-23-1	1314-23-4

เลขที่	สิ่งของ			ข้อกำหนดมาตรฐาน
1	ความบริสุทธิ์			สิ่งเจือปน (PCT Max แต่ละอัน)	ขนาด
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150mesh
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100mesh
4	การบรรจุ			25กก. ในถุงพลาสติกที่มีกลองกระดาษแข็งด้านนอก

แฮฟเนียมออกไซด์HfO₂หรือแฮฟเนียมไดออกไซด์ ซึ่งเป็นสารประกอบของแฮฟเนียม HfO₂+ZrO₂≥99.9% จุดหลอมเหลว 2758°C ความหนาแน่น 9.68g/cm³ไม่ละลายในน้ำ HCl และ HNO₃แต่ละลายได้ใน H₂SO₄และ HFแฮฟเนียมออกไซด์ HfO₂เป็นวัสดุเซรามิกที่มีช่องว่างแถบกว้างและค่าคงที่ไดอิเล็กตริกสูงแฮฟเนียมออกไซด์HfO₂มีแนวโน้มมากที่สุดที่จะแทนที่ซิลิกาฉนวนเกตของท่อเอฟเฟกต์สนามเซมิคอนดักเตอร์โลหะออกไซด์เพื่อแก้ปัญหาการจำกัดขนาดของการพัฒนาโครงสร้าง SiO₂/Si แบบดั้งเดิมใน MOSFET ดังนั้นจึงเป็นวัสดุขั้นสูงที่ใช้ในสนามไมโครอิเล็กทรอนิกส์นอกจากนี้ยังใช้กันอย่างแพร่หลายในการทำโลหะแฮฟเนียม สารประกอบแฮฟเนียม วัสดุทนไฟ วัสดุเคลือบป้องกันกัมมันตภาพรังสี และตัวเร่งปฏิกิริยา